Z druhé strany oblohy

Výstava
Její výstava Z druhé strany oblohy představuje sérii fotografií, které vznikly v ateliéru Cité Internationale des arts de Paris, kde tři měsíce tvořila. Fotografie zvláštních krajin a neobyčejných zátiší jsou upravovány bez jakéhokoli použití digitálních technologií. Umělkyně ve své tvorbě pracuje s různými empirickými metodami jako jsou recykláž, koláž, stříhání... Hraje si s formátem i médiem a vytváří tak matoucí obrazy, které zkoumají naše vnímání reality








Termíny